吉田（M1）と吉元特定准教授がSPIE Advanced Lithography 2016（米国カリフォルニア、サンホセ）で発表

2016/02/20: Category - conference, eventlist

吉田（M1）と吉元特定准教授が２０１６年２月２１日ー２５日、米国カリフォルニア州サンホセで開催されるSPIE Advanced Lithography 2016にて、誘導自己組織化に関する研究成果（東芝との共同研究）を発表します。

Title: “Control of morphological defects at the boundary between the periodic and non-periodic patterns in directed self-assembly process”

Authors: A. Yoshida, K. Yoshimoto, M. Ohshima (Kyoto University) K. Kodera, Y. Naka, S. Kobayashi, S. Maeda, K. Kobayashi, H. Aoyama (Toshiba)