2007年度第1回（通算第7回）粒子帯電制御グループ会

「電気プロセス・トモグラフィーのすべて」

■共催：日本大学理工学部駿博会

■協賛：(社)日本機械学会、(社)可視化情報学会、日本混相流学会

■日時：2007年4月20日（金）13:00〜17:35

■場所：日本大学理工学部 駿河台キャンパス 1号館2階 122会議室
　　　　　 東京都千代田区神田駿河台1-8-14
　　　　 　http://www.cst.nihon-u.ac.jp/map/suru.html

■交通： JR中央・総武線「御茶ノ水」駅・東京メトロ千代田線「新御茶ノ水」駅下車徒歩３分

■参加費：会員（個人）1,000円
　　　　 　会員（企業）2,000円
　　　　 　学生無料
　　　　　 非会員5,000円
　　　　　 懇親会参加費（希望者）：3,000円

■定員：６０名
（定員になり次第，締め切らせていただきます。各参加費は，当日会場にて）

【講演概要】

1. 近年、流動層や粉体パイプラインなどの粉体混相流系分野だけではなく、火力水力原子力などのパイプライン、 マイクロチャネル、各種電気機器、エンジンや火炎などの流体熱機械内の流動の可視化などにおいて、電気プロセス・トモグラフィー法が 実用化されつつあります。電気プロセス・トモグラフィー法は、抵抗や静電容量を断面内で多数計測し、そのデータから数学的な画像再構成計算を行うことで、 断面の濃度や流速分布の断面分布をマイクロ秒オーダーで可視化計測することができます。また、医療用CTとは異なり非常に安価で実現することができます。 本講演会では、国内外の専門家を講師として招き、その電気プロセス・トモグラフィー法の基礎から、産業的な応用まで、広く知っていただくことを目的としています。

◇プログラム◇

1. 13:10−14:10: Fundamentals of Process Tomography - A ready Technology for Process Engineering
   　　　　　　　　　 （英国リーズ大学 粉体科学技術研究所助教授） Mi Wang氏
   　　　　　　　　　 日本語解説 （日本大学理工学部助教授） 武居昌宏氏
   
2. 14:10−15:00: 電気抵抗方式トモグラフィー計測の流動プロセスへの応用
   　　　　　　　　　 （横浜国立大学大学院工学研究院教授） 上ノ山 周氏
   
3. 15:20−16:10: プロセス・トモグラフィーの産業への応用展開の事例紹介
   　　　　　　　　　 （呉羽化学工業�椛麹�研究所） 神子島克氏
   
4. 16:10−17:10: Introduction of Process Tomography Systems and Their Applications
   　　　　　　　　　 （英国Industrial Tomography Systems社主任研究員） Changhua Qiu氏
   
5. 17:10−17:30: 総合討論
   
6. 17:40−19:30: 懇親会
   

■申込締切：平成18年4月13日（金）

■申込（連絡先）：松坂修二 e-mail: matsu@cheme.kyoto-u.ac.jp （氏名；e-mail；所属部署；電話；会員（種別），非会員，学生の明記，懇親会参加の有無をご記入ください）

■会場およびプログラムに関するお問い合わせ：武居昌宏（日本大学理工学部機械工学科）
e-mail: mtakei@mech.cst.nihon-u.ac.jp
Tel.&Fax. 03-3259-0749


■代表：松坂修二，松山達；　幹事：白川善幸，綿野 哲

■特別幹事：武居昌宏